全膜法水处理工艺资料

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SDI值是污染指数的简称,在反渗透系统中,用来衡量反渗透进水的一个重要指标。反渗透系统进水要求15分钟SDI值SDI15<5,推荐值SDI15<4。反渗透进水SDI15值越小说明进水对反渗透膜的污染程度越小。

试验期间超滤出水SDI15值的变化曲线如图2所示。从图中可以看出超滤出水SDI15值最大1.33(出现在万家寨水库排砂,原水浊度>100NTU期间)最小0.00,除了4次>1.0外,其余均<1.0;优于SDI15<4的反渗透进水推荐值。说明SFP超滤对污染指数SDI15值有很有效降低作用。超滤进水(即双滤料过滤器出水)SDI15>6.67(SDI极限值), 无法测量。这表明,如果不使用超滤进行更深度的处理,双滤料过滤器的产水是不能满足反渗透的进水要求的。因此,在此水质条件下,超滤是必需的处理工序。

图2. 预处理系统对SDI15的去除情况 3.3 超滤装置进出水压差的变化

试验期间保持产水流量不变,监测超滤进出水压力数据,得到超

滤的进出水差压变化曲线,并经温度修正后如图3所示。可以看出,超滤的进出水压差在试验期间有一定的波动,但总体没有明显的升高趋势。说明在此期间超滤膜没有明显的污堵。

图3. 超滤过膜压差的变化情况 3.4 反渗透和EDI的除盐情况

除盐系统包括一、二级反渗透和EDI。一级反渗透作为预脱盐装置,脱除水中大部分的溶解盐类、颗粒、硬度、活性硅,二级反渗透和EDI作为精脱盐装置,进一步脱除水中微量的溶解盐类、硬度、活性硅,使整个系统的出水水质达到超高压亚临界锅炉的补水水质要求。原水和EDI产水电导率的变化如下图所示:

图4. 原水与EDI产水电导率的变化 3.5 膜法除盐系统对硅的去除

硅是锅炉补给水的一项重要指标,在电厂的运行中硅的含量被严格监测和控制。试验期间,对膜法除盐系统的进、出水硅含量进行了监测分析。其中两次取水样送至“北京谱尼理化分析测试中心”进行低含量硅的分析,分析结果如下:

表3. 水样低含量硅分析 窗体顶端 水样一(取样时间:2003年3月水样二(取样时间:2003年4月2序号 29日9:00) 窗体底端 8.73 全硅(mg/l) 1 原水 活性硅(mg/l) 2 双滤料出水 6.69 全硅(mg/l) 双滤料出水 全硅(mg/l) 8.18 日12:00) 活性硅(mg/l) 6.28 活性硅(mg/l) 8.01 6.16 全硅(mg/l) 3 超滤出水 活性硅(mg/l) 0.084 (mg/l) 一级RO出全硅水 去除率 5 98.64% 5.79 一级RO出活性硅水 EDI出水 (mg/l) (mg/l) 去除率 活性硅0.078 99.02% 0.003 4 0.012 (mg/l) 二级RO出全硅水 去除率 85.71% 0.002 全硅(mg/l) 6 EDI出水 83.30% 去除率(%) 从表中数据可以看出,膜法除盐系统各单元对硅均有较高的脱除率。一级反渗透脱硅率达到99%左右,与设计软件的计算值接近;而二级反渗透进水的硅含量较低(84ppb),其对硅的脱除率也相对较低,约86%;而EDI对硅的脱除率约为83%。试验期间系统产水硅含量在0.003 mg/L(3ppb)左右。

另外,EDI产水中的硬度指标始终保持在检测下限之下,符合锅炉用水的要求。 4. 结论

通过试验过程和试验过程各种数据的分析,可以得出以下结论

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