发布时间 : 星期四 文章在线低辐射镀膜玻璃 - 吉林省专利信息服务网更新完毕开始阅读
在线低辐射镀膜玻璃
<申请号>=CN94237225.5
<名称>=双端磁控溅射离子镀膜机
<申请（专利权）人>=长沙国防科技大学八达薄膜电子技术研究所 <发明（设计）人>=彭传才;魏敏;胡云慧;田雨时;刘重光;金昭廷;黄广连 <申请日>=1994.04.27
<地址>=410073湖南省长沙市国防科技大学四系
<摘要>=本实用新型涉及的是一种双端磁控溅射离子镀 膜机，由真空室和传输机构组成。其中真空室包括 前、后锁室、溅射区、隔离区和压差室，真空室内设置 有加热装置和溅射靶、偏压装置，在前锁室上开有入 口，后锁室上开有出口，在真空室壁上设有穿越口。 本实用新型具有长度尺寸小，从而投资小，生产节拍 快，具有多种功能，既可以镀热反射玻璃，也可以镀低 辐射玻璃，还可以在瓷砖、钢板上镀膜以及在有一定 曲面的板上镀膜，且膜的附着力，膜厚的均匀性都明 显改善，从而大大提高产品的质量。
<申请号>=CN200510100985.6
<名称>=一种离线可钢化低辐射镀膜玻璃之膜面的保护方法 <申请（专利权）人>=深圳市南玻伟光镀膜玻璃有限公司 <发明（设计）人>=曾小锦;李国鹏;陈可明 <申请日>=2005.11.01
<地址>=518067广东省深圳市南山区蛇口工业六路1号 <摘要>=一种离线可钢化低辐射镀膜玻璃之膜面的保护
方法是：离线可钢化低辐射镀膜玻璃之膜面上贴覆一层保护 膜。本发明离线可钢化低辐射镀膜玻璃之膜面的保护方法科 学、简单、容易实施。采用本方法贴覆在玻璃表面的保护膜具 有：一、保护膜黏度合适，不易脱落，在磨边、清洗时有强附 着力，抗水浸泡及冲洗，抗渗水；二、能满足玻璃的带膜任意 切割，不脱落；三、保护膜能轻易撕下，它不会在玻璃膜面上 留下残留物或破坏镀膜面；四、保护膜可使玻璃镀膜面保持洁 净，防止玻璃膜面在后续切、磨、钻、清洗等加工过程中被污 染及损伤；五、保护膜所具有的隔离性能，可以阻止玻璃镀层 面与空气的接触，避免镀层与空气中的氧、硫化物等物质反应 而被氧化。
<申请号>=CN01112932.8
<名称>=点接式低辐射镀膜中空玻璃的生产工艺
1
<申请（专利权）人>=上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司
<发明（设计）人>=孙大海;黄从越;谢丽美;楼君杨;俞德荣;孙宾;张晓雷 <申请日>=2001.05.18
<地址>=200126上海市济阳路100号
<摘要>=本发明采用切割机定位加工工艺和英特玛克加
工中心定位加工工艺相结合的定位方法,对玻璃进行切割、磨 边、钻孔,在玻璃进行磁控溅射镀膜工艺中采用专用器具去除玻 璃孔口边的膜层,在密封工艺中,采用密封衬圈丁基胶自动涂胶 工艺和点接孔注胶头器具涂胶密封,在合片工艺中,采用同心度 检测模、密封圈定位器和内衬圈定位固定器专用器具定位。
<申请号>=CN94118301.7
<名称>=浮法在线生产镀膜玻璃的方法
<申请（专利权）人>=秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司
<发明（设计）人>=汪建勋;孔繁华;刘军波;李春华;赵明;周秋林;曹涯雁;王伟;赵年伟 <申请日>=1994.11.22
<地址>=066000河北省秦皇岛市海港区燕山大街19号 <摘要>=本发明涉及浮法在线生产镀膜玻璃的方法。该 方法是在锡液温度620-640℃，玻璃带拉引速度 160-430m/h条件下，应用反应器将主要包括硅
烷、硼烷和作为稀释气体的氮气的镀膜混合气体于锡 槽内行进的热玻璃带上表面形成一种含硼多晶硅
膜。该方法具有高淀积速率，低可见光透过率，高可 见光反射率，适应不同玻璃拉引速度特点。
<申请号>=CN99116863.1
<名称>=一种镀制可热处理的仿低辐射膜玻璃的方法 <申请（专利权）人>=苏州华东镀膜玻璃有限公司 <发明（设计）人>=孙延敏;张桂山;唐华明;陆火生 <申请日>=1999.09.09
<地址>=215128江苏省吴县市东吴南路石湖路
<摘要>=本发明公开了一种镀制可热处理的仿低辐射膜
玻璃的方法,使用真空磁控溅射镀膜玻璃生产设备,该方法交错 地使用不锈钢靶和钛靶,并且用氧气作为工艺气体;先镀制氧化 不锈钢膜,再镀制氧化钛膜,交错重复镀制;用该方法制造的镀膜 玻璃具有高透射率、高反射率和低辐射率,并且可以进行热处 理。
<申请号>=CN00118914.X <名称>=一种在线镀膜的方法
<申请（专利权）人>=浙江大学无机非金属材料研究所
2
<发明（设计）人>=杨辉;葛曼珍;孟祥森;江仲华 <申请日>=2000.06.15
<地址>=310027浙江省杭州市玉泉
<摘要>=本发明公布了一种用常压化学气相法(APCVD)
对浮法玻璃进行在线复合镀膜深加工的方法,镀膜时用SiH4－NH3－N2－H2O系统,通过调整SiH4、NH3、H2O的比例,在硅薄膜中掺加一定量的氮、氧以达到复合镀膜的目的。制备温度低于700℃,N2的纯度在99.99%以上,NH3/SiH4流量比例范围是10～100,NH3中水汽含量为0.1～0.001%。镀膜后的平板玻璃力学性能和化学稳定性能大幅度提高,可以克服玻璃的粘片和霉变现象,产生积极的经济效果。
<申请号>=CN95116589.5
<名称>=内联式超薄弱光型非晶硅光电池生产线 <申请（专利权）人>=李毅
<发明（设计）人>=李毅;周庆明;周起才;陈刚 <申请日>=1995.10.20
<地址>=518000广东省深圳市福田区下步庙南区22栋504室 <摘要>=本发
明一种内联式超薄 弱光型非晶硅光电 池生产线，其特征在
于，上述在线生产设备概括为集成透明电极制造单元、集成非 晶硅膜制造单元、集成铝背电极制造单元、切片测试单元，应 用磁控溅射、化学汽相沉积、激光、电子计算机、自动控制、 等离子体沉积、真空蒸镀、丝网印刷等技术即可生产内联式超 薄弱光型非晶硅光电池。本发明优点是可以工业化、系列化、 大批量的进行生产；生产技术先进，技术含量高；工装设备投资 少、风险小；无环境污染，有利于环保。
<申请号>=CN200610041201.1
<名称>=平板玻璃在线镀膜的方法和设备 <申请（专利权）人>=福耀集团双辽有限公司 <发明（设计）人>=尚贵才;周杰;赵福志;杨璋 <申请日>=2006.07.18
<地址>=136400吉林省双辽市福耀路833号
<摘要>=本发明公开了一种在平板玻璃上、特别是热的平
板玻璃上进行镀膜的方法和设备，适用于在浮法玻璃生产线锡 槽出口处，在线生产液态或固态镀膜玻璃，特别适用于阳光控 制镀膜，而且是膜层中含有金属氧化物的镀膜。本发明在锡槽 出口处的镀膜区域添加一独立的气氛控制室，使镀膜机、排气 装置位于气氛控制室内，该气氛控制室是单独的、不与锡槽相
3
连通的，在气氛控制室内充满有氧化气体氛围，并保持氧化气 体的压力一定。经过这样改进的平板玻璃膜具有以下优点，如 原材料利用率的提高、生产成本的降低、沉积效率的提高、排 气装置的清洗或吹扫周期长等。
<申请号>=CN200710074842.1
<名称>=一种可后续加工的低辐射玻璃及其制造方法
<申请（专利权）人>=深圳市南玻伟光镀膜玻璃有限公司; <发明（设计）人>=陈可明;曾小绵 <申请日>=2007.06.06
<地址>=518067广东省深圳市蛇口工业六路1号
<摘要>=一种可后续加工的低辐射玻璃的制造方法，包括：玻璃基片镀膜前的清洗、干燥处理和镀膜完成后的检验，其特征在于：采用真空磁控溅射镀膜工艺在玻璃上依次镀制：氮化硅(Si3N4)膜层、氧化锌锡(ZnSnOx)膜层、氧化镍铬(NiCrOx)膜层、银(Ag)膜层、氧化镍铬(NiCrOx)膜层、氧化锌锡(ZnSnO)膜层和氮化硅(Si3N4)膜层。本发明采用独特的膜层配置结构制造出的产品具有低辐射率，光学性能稳定、颜色多样，能在700℃高温下，进行钢化、热弯和弯钢化等强化处理；能完全满足长途运输、储存(储存时间可超过八个月)、能满足在异地加工、切割、掰片、磨边、钻孔、清洗等后续加工的要求，在这些过程中，产品不脱膜、不氧化，产品能推广到民用住宅。
<申请号>=CN03142007.9
<名称>=一种玻璃镀膜用混合气体及其制备方法
<申请（专利权）人>=杭州浙大高特材料科技有限公司 <发明（设计）人>=韩高荣;包颖;韩百荣 <申请日>=2003.07.28
<地址>=310013浙江省杭州市西湖区玉古路149号方圆大厦411室 <摘要>=本发明公开了一种以化学气相沉积法(CVD)在玻 璃表面在线制备纳米硅复合功能薄膜所必须的玻璃镀膜用混
合气体及其制备方法，该混合气体由基质气体SiH4和N2以及掺杂气体CO2、N2O、C2H4、B2H6和PH3中的任一种或几种组成。由于混合气体中引入掺杂气体，因此能够较为方便地控制硅纳米复合功能薄膜中的硅晶粒大小，改进薄膜的阳光控制功能，并起到了一定的装饰效果。采用本发明的混合气体可简化薄膜的制备工艺，降低薄膜的制备成本。混合气体制备过程中采用的恒温压力配比法有效地解决了通常在混合气体配比过程中由于将真实气体作为理想气体处理而产生误差的问题，做到了混合气体中各组成气体的精确配比。
<申请号>=CN200710046652.9
<名称>=一种太阳能光伏发电夹层玻璃
<申请（专利权）人>=上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司;
4