发布时间 : 星期五 文章第一章 头 部更新完毕开始阅读
初学者应特别注意，所有横断层标本和影像扫描图像均为其下面观，以免出现左、右侧别颠倒。
一、矢状缝层面（断层一）
此断层为Reid基线上方第16断层。 关键结构：顶骨，矢状缝。
断面上，颅骨矢状缝明显，两侧为顶骨。
头皮由皮肤、浅筋膜和帽状腱膜紧密连接而成，围绕于顶骨周围。浅筋膜内有数条浅静脉。
二、上矢状窦和大脑上静脉层面（断层二） 此断层为Reid基线上方第15断层，
关键结构：上矢状窦，大脑上静脉。
上矢状窦位于中线两端，前细后粗，其两侧出现大脑实质和数条大脑上静脉的断面。中央沟被切及，其前方为中央前回、中央前沟和额上回；后方为中央后回、中央后沟和顶上小叶。
大脑上静脉收集大脑半球上外侧面和内侧面上部（胼胝体以上）的静脉血，约7～10条，位于硬膜下隙的部分称桥段，与硬脑膜相贴的部分称贴段，在神经外科手术时极易受损出血，故有危险带之称。
三、中央旁小叶层面（断层三）
此断层为Reid基线上方第14断层。
关键结构：额内侧回，中央旁小叶，楔前叶。
颅腔内可见左、右大脑半球，两大脑半球间为大脑纵裂，内有大脑镰。在大脑镰前、后两端，可见三角形的上矢状窦。其外侧面由前向后表现为额上回、中央前沟、中央前回、中央沟、中央后回和顶上小叶。内侧面由前向后可见额内侧回、中央旁沟、中央旁小叶、扣带沟缘支和楔前叶。
上矢状窦血栓形成时，造影剂增强检查，此三角区的中心出现不强化区，称之为空三角征（empty delta sign）
四、经中央沟上部层面
此断层为Reid基线上方第13断层，经额骨和顶骨。
关键结构：中央沟，额叶，顶叶。
此断面主要为顶骨和大脑半球上部层面，仅出现额叶与顶叶，枕叶尚未出现。额叶与顶叶之间的界线为中央沟，故在断面上辨别中央沟对确认脑叶、脑沟和脑回具有重要意义。
在横断面上根据以下六点可准确地辨别中央沟：①中央沟大部分(87％) 为一不被中断的沟；②中央沟
较深，均自脑断面外缘约中份处向后内延伸，弯曲走行，在其前方和后方可见中央前沟、中央后沟与之伴行；③—般中央前回厚于中央后回，中央前回处皮质厚度为4.5mm左右；④先通过位于大脑半球内侧面的扣带沟缘支辨认出中央旁小叶，再进一步辨认中央沟；⑤中央沟在大脑半球外侧面走行约8～10cm ；⑥大脑白质的髓型有助于辨认中央沟。在CT图像上，正常脑沟宽度不超过5mm。
五、经中央旁小叶下部层面
此断层为Reid基线上方第11断层，经额骨、顶骨和中央旁小叶。 关键结构：中央前回，中央后回，中央旁小叶。
此断面通过扣带沟上方的中央旁小叶，大脑半球内侧面靠近中份是扣带沟缘支，靠近前份的是中央旁沟，两者之间是中央旁小叶，其前后分别是额内侧回与楔前叶、楔叶。中央沟从脑断面外缘中段伸向后内，中央前、后沟较短与之伴行。根据大脑白质的髓型，中央沟的前方依次可见额上回、额中回和中央前回；中央沟的后方依次有中央后回、顶下小叶和顶上小叶。大脑镰位置居中，位于左右半球之间，其前后方可见上矢状窦的断面。 六、经扣带回上部层面
此断层为Reid基线上方第10断层，经扣带沟、扣带回和顶枕沟。 关键结构：扣带回，额叶，顶叶，枕叶。
大脑半球内侧面的中部是扣带回，其前方为额内侧回，后方为楔前叶和楔叶。依据大脑白质的髓型，此断面上大脑半球外侧面由前至后依次为额上回、额中回、额下回、宽厚的中央前回、略窄细的中央后回、顶下小叶和顶上小叶。枕叶出现，其与顶叶的分界为顶枕沟。大脑镰位置居中，位于左右半球之间呈矢状位，其前后方可见上矢状窦的断面。 七、经半卵圆中心层面
此断层为Reid基线上方第9断层，经胼胝体上方及扣带回下部。 关键结构：半卵圆中心，大脑镰。
此断面经胼胝体上方，大脑镰呈线状贯穿中线，位居左右半球之间，大脑镰位的前、后方可见上矢状窦的断面。中线两侧是一个非常广泛的髓质区，为左右大脑半球髓质形成的半卵圆中心centrum semiovale所占据，大脑半球皮质和髓质分界明显。
此处大脑半球的髓质成自三种纤维：①投射纤维，连接大脑皮质和皮质下诸结构，呈扇形放射，称辐射冠；②联络纤维，连接一侧半球各皮质区，人脑的联络纤维极为发达，与投射纤维和连合纤维相比其数量最大；③连合纤维，连接左、右大脑半球的相应皮质区。
半卵圆中心的纤维主要为有髓纤维，故在MRI Tl加权图像上呈高信号，在CT图像上为低密度。脑内的脱髓鞘病变如多发性硬化、肾上腺脑白质营养不良以及脑结节硬化症等，常于该区出现单发或多发病
灶。
大脑白质的髓型更加易于辨认，脑叶、脑沟、脑回的情况大致如下：大脑半球内侧面由前向后为额内侧回、扣带沟、扣带回、顶下沟、楔前叶、顶枕沟和楔叶。大脑半球外侧面由前向后依次为额上回、额中回、额下回、中央前回、中央后回、缘上回、角回和枕叶。 八、经侧脑室上部层面
此断层为Reid基线上方第8断层，经侧脑室上部和胼胝体干。 关键结构：胼胝体干，侧脑室，尾状核。
侧脑室位于断面中部中线的两侧呈“八”字形，分为前角、中央部和后角，可见其内侧的胼胝体和外侧的尾状核。尾状核紧贴侧脑室外侧壁，呈前大后小两个断面。胼胝体位居中线，在侧脑室之间，呈“工”字形，“工”字形的两横伸入半球髓质内形成额钳和枕钳，侧脑室前角之间的部分为胼胝体膝，后角之间的部分为胼胝体压部。
大脑半球内侧面被胼胝体分成前、后两部，前部由前至后为额内侧回和扣带回，后部由前至后为扣带回、楔叶和舌回。大脑半球外侧面的脑回由前至后依次为：额上回、额中回、额下回、中央前回、中央后回、缘上回、角回和枕外侧回。
九、经第三脑室上部层面
此断层为Reid基线上方第7断层，经室间孔。 关键结构：基底核，内囊，侧脑室，第三脑室。
侧脑室前角前部呈倒“八”字形的缝隙向前外伸展，后部宽大位于透明隔的两侧，并经室间孔与第三脑室相连，透明隔的后方与穹隆柱相连。第三脑室呈纵向走行的裂隙状，后方为胼胝体压部。侧脑室前角的外侧壁为尾状核头，两侧前角之间为胼胝体膝。背侧丘脑呈团块状，位于第三脑室的两侧，前端为丘脑前结节，后端为丘脑枕。尾状核和背侧丘脑的外侧是“﹥﹤”形的内囊，在CT图像上基底核和内囊清晰可辨。内囊外侧为豆状核壳的断面，壳的外侧为屏状核和岛叶，岛叶外侧的深沟为外侧沟，其内有大脑中动脉走行。后部的小脑幕呈“V”字形，小脑幕与后方的大脑镰连接呈“高脚杯”状，杯内结构是小脑蚓。
大脑半球内侧面前部可见额内侧回和扣带回，大脑半球内侧面后部可见扣带回和舌回。大脑半球外侧面的脑回由前至后依次为：额上回、额中回、额下回、中央前回、中央后回、缘上回、角回和枕外侧回。距状沟和视辐射出现是此断层的重要特点。在横断面上辨认距状沟较为困难，禽距位于脑室后角内侧壁的腹侧，是由距状沟前部的皮质陷入侧脑室后角内而形成的隆起性结构，易于辨认，是识别距状沟的标志。
临床影像学检查脑萎缩时，其影像学表现可见脑沟加深，脑裂变宽，蛛网膜下腔明显增宽，脑室系统多呈对称性扩大等改变。
十、经松果体层面
此断层为Reid基线上方第6断层，经内囊、丘脑间粘合和上丘。 关键结构：基底核，内囊，松果体。
尾状核头位于侧脑室前角的外侧，近似倒“八”字形，背侧丘脑为较大的灰质核团，居第三脑室两侧，其外侧有豆状核，呈三角形，两个白质板分隔其间，外侧大部称为壳，内侧两部合称苍白球，壳的外侧可见条纹状前后走行的屏状核，两者之间隔以外囊，屏状核的外侧是岛叶，两者之间隔以最外囊。尾状核、背侧丘脑与豆状核之间为内囊，可见内囊前肢，位于尾状核头与豆状核之间，内囊膝位于豆状核内侧角的尖端，内囊后肢位于背侧丘脑和豆状核之间。第三脑室居两侧背侧丘脑之间，其后方为缰三角、缰连合、松果体和大脑大静脉池。脑叶、脑沟与脑回大致同上一断层，在颞叶，可见皱叠的海马皮质被海马旁回所掩盖。 十一、经前连合层面
此断层为reid基线上方第5断层，经前连合和上丘。 关键结构：前连合，中脑，小脑。
大脑断面前移，大脑外侧沟分隔前方额叶及后方的颞叶，前方的额叶位于大脑纵裂的两边，颞叶位于断层左右两侧，小脑断面在其后方出现。中脑位居断面中央，其后部左右稍隆起者为上丘，中脑水管形似针孔样位于顶盖的前方，黑质颜色较深位于前外，红核位于其后内。前连合位于大脑纵裂和第三脑室之间，前连合左右对称，中部纤维聚集成束，两端分别向前、后放散，整体上呈“H”字型。在MRI图像上，前连合是重要的标志性结构。侧脑室前角外侧可见尾状核，尾状核和壳部分相连，其外侧可见屏状核和岛叶。侧脑室下角位于颞叶内，略成弧形裂隙，前壁可见尾状核尾，后壁为海马。小脑断面增大形似扇形，中间为小脑蚓两侧为小脑半球，小脑幕呈“八”字形位于颞叶和小脑之间，前方邻近海马旁回、枕颞内侧回和枕颞外侧回。 十二、经鞍上池层面
此断层为Reid基线上方第4断层，经乳头体。
关键结构：乳头体，中脑，小脑。
鞍上池位于断面中部，因切制基线的不同可呈四角、五角或六角星形。六角星形鞍上池的前角连于纵裂池，两个前外侧角连于侧裂池，两个后外侧角延续为环池，其后角位于后缘中央，为脚间池。鞍上池内有时可见基底动脉、颈内动脉、大脑前、中、后动脉的断面。大