LCD 产业现况解析 - 图文

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壹、全球LCD曝光設備產業動向

Canon也集中資源開發11G對應設備。在光學部分以及平台技術部分,繼續沿用以前的技術,在製程腔部分,以朝盡量減少人工作業的方向推動研發。作業員在腔室內作業除了會產生塵埃之外,因為高度高達6~7公尺,也必須考慮安全上的問題。因此,將以前手動操作的光學部分調整作業等,更改為直接操作設備外部的控制盤。另外,為了可以順利開始啟動,以及假設必須在客戶公司現場有效率地完成組裝,也重新檢討了零配件的結構。11G對應設備的交貨預定於2011年的下半期。

在曝光設備部分,提高開口率以降低面板的消費電力、安裝120/240Hz驅動等,以改善裝置的性能。既確保了開口率,也出現更多改善解析度以及套準精度的需求。另外,因為既有的大尺寸a-Si TFT的精密程度已經與中小尺寸LCD並駕齊驅,相信將會出現裝置精密度必須高達1.5~2μm程度的要求。至於Netbook筆記本電腦等級的7~11吋,因為隨身攜帶移動,必須降低消費電力。也有人認為製程革新,將從第5代(5G)起重現江湖。

三、PSA以及光配向以量產程度正式起跑

各家LCD廠商為了因應逼近成本的面板價格降價,紛紛再度降低了生產成本。包括背光源(BL)、光學薄膜的組成、Cell結構、變流器以及電源迴路等所有部分,似乎會出現翻天覆地的變化。第一步就是重新檢討Cell結構。透過重新檢討Cell結構,提高面板的透過率與BL的光使用效率,減少光源的搭載數量。這樣一來,可同時降低成本與降低消費電力。至於最近受到各界矚目的LED-BL,則遇到發熱的問題。在側光式模組中,因為熱度容易集中在面板邊緣部位,液晶材料受損,並且聽說出現了外圍與中央回應

3 智權所有.翻印必究

TFT-LCD產業觀察與現況解析報告<Y98Q3>

速度不同的例子。提高透過率,雖然可幫助減少光源裝載數量,同時也可以成為一種散熱方案,深受各界期待。

表1 「FX-75S/85S」(Nikon)規格

解析度 投影倍率 對準精度 基板尺寸 光罩尺寸 產品生產時間 3.5μm(g/h/i線模式)、3.0μm(i線模式) 1:1 ≦±0.6μm 1950×2250mm(75S)、2500×2200(85S) 1220×1440mm 58s/plate(75S)、60s/plate(85S) (4光罩掃描方式時,30mJ/cm2,4EGA/scan,g/h/i線模式) 資料來源:Electronic Journal (2009/08);金屬中心產研組(2009/09)

圖1 Nikon的最新曝光設備的透視圖

資料來源:Electronic Journal (2009/08);金屬中心產研組(2009/09)

在Cell相關技術部分,台灣友達(AUO)在大尺寸生產線上採用PSA(Polymer Sustained Aligment),以及夏普採用光配向技術等成為各界注目的焦點。在PSA部分,使用混合UV硬化單體的液晶材料,在ODF之後,印加電壓並照射UV,單體開始活性化並與聚合物層反應後,預傾角固定。優

4 金屬中心產業研究組

壹、全球LCD曝光設備產業動向

點為即使VA模式中必備的突起或是彩色濾光片(CF)上沒有縫隙(slit),依然可以進行液晶的配向。因為CF部分形狀平坦,就裝置而言,也具有不會出現殘留位相差或是光漏的好處。目前已經應用於手機或是電視產品。但是,因為配向處理均一度差,使用在電視上時,畫質不均就是尚待解決的問題。在產品生產時間方面,因為一次以強烈紫外線照射的緣故,形成大量的小針孔,必須以低能源進行長時間的照射。V?Technology則在紫外線照射部分,提出使用新型光源以及水冷方式進行強制冷卻的「FACE」方案。如果使用這項技術,可以壓倒性地將原本需要30分鐘的紫外線照射時間縮短到30秒左右。除了友達光電量產使用PSA之外,另外,夏普也使用於中小尺寸的生產線上,並正在生產。另外,韓國的Samsung Electronics與台灣的奇美光電則正在進行研發。

在光配向技術部分,V Technology接到了曝光機「EGIS」總計95億日圓的大型訂單。光配向使用的機種,已經於4年前完成研發,雖然長期處於等待客戶下單的狀態,在降低生產成本的氣氛逐漸高漲之際,終於獲得客戶採用。光配向除了可以進行高產出率的生產之外,另外,還擁有其他如製程範圍較大等優點。透過率也高於PSA。但是,材料與裝置成本偏高,則是比較令人擔憂的問題。此外,聚醯亞胺(PI)擁有波長依存性與光照射量依存性的特性,因此需要配合使用配向材料與製程方面的Know-how,如無經過長時間的研究與累積,難以導入量產。目前,可以用於量產的公司只有夏普一家,但是,據聞Samsung正在進行研發。

5 智權所有.翻印必究

TFT-LCD產業觀察與現況解析報告<Y98Q3>

四、EGIS將CF以及TFT的設備納入目標

EGIS曝光機因為可以大幅度幫助降低營運成本,即使是在CF方面的運用,採用活動也十分活躍。組合成電視套裝狀態在經LCD廠商測試後,結果顯示良好,因此,共同研發的日本精工也期待可以儘快被採用。EGIS因為裝載了高精度的影像檢出技術,可以瞬間檢查出Pattern偏移以及基板熱變形等問題,並可立即進行補正並同時曝光。不同於利用對準圖形進行對位的既有設備,因為可以同時讀取被瞄畫的Pattern並進行曝光的關係,因此,被認為是最適合用來讀取黑色矩陣(BM)並曝光RGB的方法。這個相同的手法,也被認為是用來在TFT上形成CF的Color Filter on Array(COA)的最佳曝光法。因為COA在貼合的玻璃上可以使用鈉鈣玻璃,可以有效大幅度降低成本。V Technology在TFT使用方面,目前針對8G以上提案了結合微透鏡陣列結構的試作設備。據說10G的光罩一枚價格就超過2億日圓,因此,即使是試作的光罩也是一項重大的負擔。基於8G玻璃也是同樣道理的判斷,將之定義為量產設備前的銜接階段,於2010年3月之前交貨,並針對其他LCD廠商推廣營業活動。

五、主要廠商戰略

(一) NIKON

6 金屬中心產業研究組

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