发布时间 : 星期二 文章一位全加器版图设计与模拟更新完毕开始阅读
西北工业大学明德学院本科毕业设计论文
发现错误时，会在错误的地方做出标记，并且做出解释。
（2）Electrical Rules Checker 检查线路短路， 线路开路和floating 结点。ERC 检查到短路错误后，将错误提示局限在最短的连接通路上。
（3）Layout Versus Schematic LVS 比较IC 版图和原理图，报告版图连接和原理图的不一致， 并进行修改直到版图和电路图完全一致。
5、版图修改：Label 是否正确，label 所选的layer 是否正确； Power & Ground 连接得有没有问题； 得到的files 是否确实可靠， 检查netlist 中器件类型的命名是否符合规范； 认真研究design rule，做好DRC 改错。看给出的报告，有没有offgird；结点多不多，多的话就有断路的地方，少的话就有短路的地方；对照原理图，看有没有连错线。
6、寄生与仿真：在实际电路的制作过程中，会产生寄生参数，它们分别为：寄生电容、寄生电感和寄生电阻。
7、版图完成：后端数据接口处理，确认芯片版图的设计和尺寸，落实相关Foundry 的流片计划，确认设计数据（GDSII 文件）大小。 布局时注意事项
1、 布局前的准备: 在正确的路径下打开icfb; 查看捕捉点设置是否正确。18 工艺为0.001,25 工艺为0.01,035 工艺为0.05;布局前考虑好出PIN 的方向和位置;布局前分析电路，完成同一功能的MOS 管画在一起
2、 布局时注意:更改原理图后一定记得check and save；完成每个cell 后要归原点；尽量用最上层金属接出PIN；金属上走过的电压很大时,为避免尖角放电,拐角处用斜角,不能走90 度的直角。
3、 节省面积的途径：电源线下面可以画有器件.节省面积.数字电路版图主要是要节省面积，减小面积。
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1.2集成电路设计流程
图1-1 集成电路设计流程
模拟集成电路版图设计流程： 1、阅读研究报告。 2、理解电路原理图。
3、了解电路的作用熟悉电流路径晶大小知道匹配器件。
4、明白电路中寄生，匹配，噪声的产生及解决方案对版图模块进行平面布局。 5、对整个版图进行平面布局 。
6、 熟练运用L-edit软件进行版图绘制 Esd的保护设计进行drc与Lvs检查。 7、整理整个过程中的信息时刻做记录 注意在设计过程中的交流。
1.3集成电路版图设计的发展现状和趋势
集成电路的出现与飞速发展彻底改变了人类文明和人们日常生活的面目。近几年，中国集成电路产业取得了飞速发展。中国集成电路产业已经成为全球半导
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体产业关注的焦点，即使在全球半导体产业陷入有史以来程度最严重的低迷阶段时，中国集成电路市场仍保持了两位数的年增长率，凭借巨大的市场需求、较低的生产成本、丰富的人力资源，以及经济的稳定发展和宽松的政策环境等众多优势条件，以京津唐地区、长江三角洲地区和珠江三角洲地区为代表的产业基地迅速发展壮大，制造业、设计业和封装业等集成电路产业各环节逐步完善。
2006年中国集成电路市场销售额为4862.5亿元，同比增长27.8%。其中IC设计业年销售额为186.2亿元，比2005年增长49.8%。
2007年中国集成电路产业规模达到1251.3亿元，同比增长24.3%，集成电路市场销售额为5623.7亿元，同比增长18.6%。而计算机类、消费类、网络通信类三大领域占中国集成电路市场的88.1%。
目前，中国集成电路产业已经形成了IC设计、制造、封装测试三业及支撑配套业共同发展的较为完善的产业链格局，随着IC设计和芯片制造行业的迅猛发展，国内集成电路价值链格局继续改变，其总体趋势是设计业和芯片制造业所占比例迅速上升。
集成电路掩模版图设计是实现集成电路制造所必不可少的设计环节，它不仅关系到集成电路的功能是否正确，而且也会极大程度地影响集成电路的性能、成本与功耗。近年来迅速发展的计算机、通信、嵌入式或便携式设备中集成电路的高性能低功耗运行都离不开集成电路掩模版图的精心设计。一个优秀的掩模版图设计者对于开发超性能的集成电路是极其关键的。
集成电路掩模版图设计是一门技术，它需要设计者具有电路系统原理与工艺制造方面的基础知识。但它更需要设计者的创造性、空间想象力和耐性，需要设计者长期工作的经验和知识的积累，需要设计者对日新月异的集成电路发展密切关注和探索。
1.4 集成电路版图工具L-edit简介
L-Edit是一个图形编辑器，它允许生成和修改集成电路掩模版上的几何图形。鼠标接口允许用户执行一般图形操作。既可使用鼠标访问下拉菜单也可以使用键盘来调用L-Edit命令。
(1) 文件和单元
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使用文件、单元、连接器、掩模基元来描述布局设计，一个文件可以有任意多个单元组成，在典型设计中，这些单元可以有层次关系，也可以相互独立，单元可以包括任意数量的掩模基元和连接件，以及两者的组合，掩模单元由矩形、图、直线、多边形和技术层端口组成。
(2) 层次
完全层次性的单元可以包含别的单元的连接件。一个连接件是一个单元的“拷贝”；如果编辑连接单元，这种改变将反映到那个单元的所有连接件上。 L-Edit对层次不作限制。单元可以包含单元的连接件，被包含的单元又可以包含别的连接件。这样就形成了单元层次。在层次结构中可以有任意级。 L-Edit不能用于分离的层次结构，连接件和基元几何图形都可以存在于层次结构的任意级中的同一单元内。
(3) 单元设计
L-Edit是一个低层次的，全定掩模编辑器，该编辑器不能执行层的自动转换。 (4) 层规划
L-Edit是一个高层规划工具。用户可以选择要显示的连接件，它显示一个边框，中间显示单元名，也可以显示掩模几何图形。使用内部隐藏时，可以操作用户设计的大型芯片级块，以获得所需要的层规划。用户可使用用于操作基元的几何图形的命令。
(5) 文件格式
L-Edit能输出两种掩模布局交换格式（CIF，GDSⅡ）以及Tanner Research公司的二进制数据库的格式TDB（Tanner Data Base），L-Edit能够读取CIF（Caltech Intermediate Form）和TDB文件。
(6) L-Edit支持对象
L-Edit支持九种对象：框、直线、图、多边形、圆形、扇形、圆环形，端口和单元连接元件，所有对象可以用同样的方式来建立和编辑，移动和选择。L-Edit不能对用户绘制的图形进行修改。L-Edit是面向对象的设计工具，而不是位图编辑器。
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