发布时间 : 星期三 文章第五代低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示器件(LTPS TFT-LCD)项目环境影响报告书（简本） - 图文更新完毕开始阅读
玻璃基板
DI纯水, 清洗液 清 洗 有机废水
SiH4, NF3, H2, 回收水(ROR) 遮光层PECVD淀积 LS a-Si 有害废气, 含氟废水
HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 SF6 , Cl2, 回收水(ROR) 剥离液, DI纯水 1次掩膜光刻 有机废水，酸碱废水 碱性废气，有机废气、 废液
干法刻蚀Active 酸性废气, 含氟废水
有机废水，废液
光刻胶剥离 高沸点有机废气 无机废水
DI纯水 清 洗 SiH4, NH3, N2O, NF3 , H2, 回收水(ROR) 多晶硅层PECVD淀积 ACT SiNx/SiOx/a-Si 有害废气, 含氟废水
DI纯水, DHF 5%HCL/1%H2/94%Ne , Xe, 回收水(ROR), HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 SF6 Cl2, 回收水
多晶硅清洗 酸碱废水
准分子镭射激光退火 有害废气
有机废水，酸碱废水
2次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 废液
干法刻蚀Active 酸性废气, 含氟废水 有机废水，废液 高沸点有机废气
剥离液, DI纯水 光刻胶剥离 BF3, 回收水(ROR) HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 BF3 回收水(ROR) 沟道掺杂 有害废气, 含氟废水 有机废水，酸碱废水
3次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 废液
P 型掺杂 有害废气, 含氟废水
回收水(ROR) 干法刻蚀 Ashing 酸性废气, 含氟废水 有机废水，废液
剥离液, DI纯水 光刻胶剥离 高沸点有机废气
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DI纯水, DHF 接上页
多晶硅清洗 酸碱废水
SiH4, NH3, N2O, NF3 , H2, 回收水(ROR) 绝缘层PECVD淀积 GI SiNx/SiOx 有害废气, 含氟废水
Mo l靶材 栅电极溅射沉积 Gate Mo 有机废水，酸碱废水
4次掩膜光刻 碱性废气，有机废气 废液
干法刻蚀 Gate 酸性废气, 含氟废水
HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 SF6 , Cl2, 回收水(ROR) 剥离液, DI纯水 光刻胶剥离 有机废水，废液 高沸点有机废气
20% PH3/H2, 回收水(ROR) DI纯水 N 型掺杂 有害废气, 含氟废水
清 洗 无机废水
SiH4, NH3, N2O, NF3 , H2, 回收水(ROR) 接触孔层PECVD淀积 ILD SiNx/SiOx 有害废气, 含氟废水
快速加熱回火 有机废水，酸碱废水
5次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 有机废水，废液 酸性废气 有机废水，废液 高沸点有机废气
HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 BHF , DI纯水 湿法刻蚀 ILD 剥离液, DI纯水 光刻胶剥离 DI纯水, DHF 多晶硅清洗 酸碱废水
Ar, Mo/Al 靶材 源/漏电极溅射沉积 SD Mo/Al/Mo 退火
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HMDS, 光刻胶, 稀释剂
显影液, DI纯水
接上页
有机废水，酸碱废水
6次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 有机废水，废液 酸性废气 有机废水，废液
光刻胶剥离 高沸点有机废气 有机废水，酸碱废水
7次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 废液
脱色硬烤 Al刻蚀液, DI纯水 湿法刻蚀SD 剥离液, DI纯水 HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 回收水(ROR) 干法刻蚀 Descum 酸性废气
DI纯水 清 洗 无机废水
Ar, ITO 靶材 铟锡氧化物溅射沉积 ITO 有害废气
有机废水，酸碱废水
HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 8次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 废液
ITO 刻蚀液, DI纯水 湿法刻蚀 ITO 有机废水，废液 酸性废气 有机废水，废液
剥离液, DI纯水 光刻胶剥离 高沸点有机废气
DI纯水
清 洗 无机废水
Ar, Mo 靶材
共用电极溅射沉积 Mo 有害废气
有机废水，酸碱废水
HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 Al 刻蚀液, DI纯水 9次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 废液
有机废水，废液 酸性废气 有机废水，废液
湿法刻蚀 Mo 剥离液, DI纯水 光刻胶剥离 高沸点有机废气
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接上页
DI纯水 清 洗 无机废水
SiH4, NH3,, NF3, H2, 回收水(ROR) 钝化层PECVD淀积 PV SiNx 有害废气, 含氟废水
有机废水，酸碱废水
HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 BHF , DI纯水 湿法刻蚀 PV 10次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 废液
有机废水，废液 酸性废气 有机废水，废液
光刻胶剥离 高沸点有机废气
剥离液, DI纯水 DI纯水 清 洗 无机废水
Ar, ITO 靶材
ITO像素溅射沉积 有害废气
HMDS, 光刻胶, 稀释剂 显影液, DI纯水 ITO 刻蚀液, DI纯水 有机废水，酸碱废水
11次掩膜光刻 碱性废气，有机废气、 废液
有机废水，废液 酸性废气 有机废水，废液 高沸点有机废气
退火 湿法刻蚀 ITO 剥离液, DI纯水 光刻胶剥离 阵列剥离终检 图例 成盒制屏工程
代表新增工序 代表60k工程工序 3.3-9 阵列工程主要产污环节图
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