发布时间 : 星期一 文章在线低辐射镀膜玻璃 - 吉林省专利信息服务网更新完毕开始阅读
<发明（设计）人>=孙大海;潘伟;张立云;沈国全;王龙梅;黄从越;潘翔云;王茂良;杨国浩 <申请日>=2007.09.29
<地址>=200126上海市济阳路100号
<摘要>=本发明提供一种能够发电的夹层玻璃-太阳能光伏发电夹层玻璃，其结构依次为：玻璃板/粘接层/太阳能电池组/粘结层/玻璃板。太阳能电池组包含至少含有一块太阳能电池板，以及太阳电池板的正负极引出线，正负极引出线从夹层玻璃中引出，从玻璃的边部引出，或者是从玻璃中间的钻孔处引出。玻璃板可以是浮法玻璃、平板玻璃、压花玻璃、钢化玻璃、低辐射镀膜玻璃或热反射镀膜玻璃。粘结层，可以是任何一种能将两片玻璃通过某种方法粘结起来的材料或其组合，厚度大于0.76mm。本发明的优点是，能够利用太阳能发电，并具有安全和装饰的效果。
<申请号>=CN200610050716.8
<名称>=通过热处理使TiN薄膜具有自清洁性能的方法 <申请（专利权）人>=浙江大学
<发明（设计）人>=赵高凌;张天播;郑鹏飞;韩高荣 <申请日>=2006.05.12
<地址>=310027浙江省杭州市浙大路38号
<摘要>=本发明公开了一种通过热处理使TiN薄膜表面
具有自清洁性能的方法。方法步骤如下：1)用10％的氢氟酸清 洗玻璃基板；2)将玻璃基板放入气相沉积反应室，通入 TiCl4、 NH3和
N2进行气相沉积反应，其中 TiCl4的流量为200－300sccm， NH3的流量为100－200sccm， N2的流量为700－1000sccm，反
应温度为500－700℃，反应时间为60－150s，在玻璃基板表 面沉积TiN薄膜；3)将热处理反应室预热至600－800℃，将上 述表面覆盖有TiN薄膜的玻璃基板放入热处理反应室中，热处 理时间为30min－120min，冷却后得到具有自清洁性能的TiN 薄膜。本发明的有益效果在于：通过较为简单的热处理工艺， 通过控制热处理的温度和时间，大大改善了TiN薄膜的表面性 能，用化学气相沉积法得到兼具低辐射和自清洁功能的镀膜玻 璃。
<申请号>=CN200610135230.4
<名称>=防紫外线镀膜玻璃及其制造方法 <申请（专利权）人>=福耀集团双辽有限公司
<发明（设计）人>=尚贵才;周杰;赵福志;刘鸿雁;范丽香 <申请日>=2006.11.15
<地址>=136400吉林省双辽市福耀路833号
<摘要>=本发明公开了一种防紫外线镀膜玻璃及其制造
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方法，所述玻璃包括至少两层，玻璃板和防紫外线膜层。玻璃 板由硅－钠－钙玻璃组成，防紫外线膜层由 FeOx或者具有掺杂物的 FeOx组成；也可由 TiO2和
CeO2或者具有掺杂物的 TiO2和
CeO2组成。所述制造方法，是采
用在线高温热解喷涂法，即将上述金属氧化物的金属的有机盐 或无机盐，按照一定比例溶解到溶剂中，形成镀膜液，用喷枪 均匀喷镀到玻璃板表面，形成膜层，再经过退火、切割、下片、 包装等工序制得最终产品。该产品紫外线透光率不大于8％， 甚至不大于5％，可以广泛应用到房屋顶、广告牌、壁画、博 物馆、展览馆、会议厅、百货公司等需要透光但又要防止紫外 线危害的环境。
<申请号>=CN03267798.7
<名称>=低热传递中空复合防雾玻璃 <申请（专利权）人>=何斌 <发明（设计）人>=何斌 <申请日>=2003.07.18
<地址>=523000广东省东莞市虎门镇新湾管理区金湾大道海景大桥边虎门佩信玻璃厂 <摘要>=本实用新型公开了一种低热传递中空复合防雾
玻璃，包括一片或一片以上的钢化玻璃、一片或两片低辐射镀 膜钢化玻璃一起组合构成单层或多层中空玻璃，低辐射镀膜玻 璃组装在外侧，在低辐射镀膜面一组对边并靠近中空铝框的部 位各设有一条电极；每两片钢化玻璃之间的周边设有内装干燥 剂的中空铝框为中空间隔的支撑，中空铝框通过丁基胶与所述 玻璃周边相连接和密封，铝框外部和玻璃面之间再用耐高低温 的硅酮胶或室温硫化硅橡胶作结构胶，中空层充有隋性气体， 低辐射镀膜可以单向反射大部分的热辐射，还可以利用镀膜面 的导电性电热除雾，采用双道密封胶的密封性能更好，高低温 下不易老化变质和开裂，能达到更长的使用寿命。
<申请号>=CN200320110407.7
<名称>=低辐射膜玻璃生产的磁控溅射设备 <申请（专利权）人>=沈琪 <发明（设计）人>=沈琪 <申请日>=2003.10.24
<地址>=213179江苏省常州市武进区潘家镇周桥村委北街87号 <摘要>=本实用新型涉及一种低辐射膜玻璃生产的磁控
溅射设备，具有电解质镀层镀膜室和导电镀层镀膜室，电解质
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镀层镀膜室的一侧设置有预抽室，电解质镀层镀膜室内设置有 镀电解质镀层的磁控靶，导电镀层镀膜室内设置有镀导电镀层 的磁控靶，在电解质镀层镀膜室与预抽室间设置有缓冲室，在 预抽室与外界、预抽室与缓冲室间、缓冲室与电解质镀层镀膜 室间分别设置有隔离密封缝阀，本实用新型的低辐射膜玻璃生 产的磁控溅射设备具有生产效率高，均匀性好，可控性强等特 点，能镀制低辐射玻璃、阳光控制膜玻璃、单向透视玻璃、高 反射镜面玻璃等产品，为目前磁控溅射镀膜玻璃生产线的升级 换代产品。
<申请号>=CN01258489.4
<名称>=具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置 <申请（专利权）人>=深圳豪威真空光电子股份有限公司
<发明（设计）人>=许生;范垂祯;周海军;吴克坚;高文波;颜远全;王建峰 <申请日>=2001.12.03
<地址>=518057广东省深圳市深南大道市高新技术工业村W1A区1楼 <摘要>=一种具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻 璃在线联镀装置,依顺序连接有前端过渡真空室、中频反应磁控溅射SiO2镀膜室、气体隔离装置、ITO镀膜室和后端过渡真空室,前、后端过渡真空室分别接有扩散泵,气体隔离装置由两个相通的隔离室、分子泵和扩散泵组成,连接中频反应磁控溅射SiO2镀膜室的隔离室接有分子泵,与ITO镀膜室相连的隔离室接有扩散泵,ITO镀膜室接有分子泵。本实用新型通过设置气体隔离装置,巧妙地减少甚至隔离了连通的SiO2镀膜室与ITO镀膜室之间不同气氛的相互影响,实现了二氧化硅(SiO2)膜与氧化铟锡(ITO)膜的在线联镀。通过设置中频双靶反应磁控溅射制备SiO2膜装置,具有制备SiO2膜速率高、成本低等的优点,提高了产品的产量和质量,降低了生产成本。
<申请号>=CN94222610.0
<名称>=浮法在线玻璃镀膜的设备
<申请（专利权）人>=秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司
<发明（设计）人>=汪建勋;孔繁华;刘军波;李春华;赵明;周秋林;曹涯雁;王伟;赵年伟 <申请日>=1994.09.26
<地址>=066000河北省秦皇岛市海港区燕山大街19号 <摘要>=
本实用新型提供了一种浮法在线玻璃镀膜的设 备。它包括用于支承、发送气体分布和排出装置的大 车和小车，该大车和小车上设有水冷梁并可对接形成 横跨锡槽的运行轨道，设置在水冷梁上的气体分布装 置具有U形的混合气通道并使镀膜气体在玻璃带表 面形成层流。在气体分布和排气装置上设置有U形 通道清扫块装置和排气狭缝清扫装置。本实用新型 利用冷壁效应，可有效地减少粉尘在通道内的淀积；
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粉尘清扫装置可进行不停车的在线锡槽内清扫。其 镀膜玻璃质量好，生产效率高。
<申请号>=CN200820170757.5
<名称>=一种浮法玻璃生产线退火窑A0区在线镀膜环境调节装置 <申请（专利权）人>=杭州蓝星新材料技术有限公司
<发明（设计）人>=汪雄海;张 琴;李小双;曹晓欢;孔武斌;陶毓锋 <申请日>=2008.12.25
<地址>=310013浙江省杭州市西湖区古翠路8号新亚大厦7楼
<摘要>=本实用新型公开的浮法玻璃生产线退火窑A0区在线镀膜环境调节装置，包 括壳体、壳体的前端口与浮法玻璃生产线的过渡辊台区相连，壳体的后端口与 浮法玻璃生产线退火窑A1区相连，在壳体内安装有承载玻璃带从过渡辊台区向 退火窑A1区运行的传送辊，在壳体与过渡辊台区的连接处以及壳体与退火窑 A1区的连接处分别设有挡帘和上翻板，并有下翻板铰接在传送辊下方的壳体横 向截面上，在壳体内于玻璃带的上方设有加热器，壳体的顶部安装有与壳体内 腔相通的温度监测装置和压力调节装置。利用本装置可以方便地实现镀膜区温 度均匀、气流和压力场稳定均匀，本实用新型装置结构紧凑，根据生产需要可 以放置一个或多个浮法玻璃在线镀膜装置，生产具有各种特殊功能的镀膜玻璃。
<申请号>=CN200320110408.1
<名称>=旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备 <申请（专利权）人>=沈琪 <发明（设计）人>=沈琪 <申请日>=2003.10.24
<地址>=213179江苏省常州市武进区潘家镇周桥村委北街87号 <摘要>=本实用新型涉及一种旋转磁靶式膜玻璃磁控溅
射设备，具有电解质镀层镀膜室和导电镀层镀膜室，电解质镀 层镀膜室的一侧设置有预抽室，电解质镀层镀膜室内设置有镀 电解质镀层的磁控靶，导电镀层镀膜室内设置有镀导电镀层的 磁控靶，在电解质镀层镀膜室与预抽室间设置有缓冲室，在预 抽室与外界、预抽室与缓冲室间、缓冲室与电解质镀层镀膜室 间分别设置有隔离密封缝阀，本实用新型的旋转磁靶式膜玻璃 磁控溅射设备具有生产效率高，均匀性好，可控性强等特点， 能镀制低辐射玻璃、阳光控制膜玻璃、单向透视玻璃、高反射 镜面玻璃等产品，为目前磁控溅射镀膜玻璃生产线的升级换代 产品。
<申请号>=CN200320110406.2
<名称>=带缓冲室膜玻璃生产磁控溅射设备 <申请（专利权）人>=沈琪 <发明（设计）人>=沈琪
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<申请日>=2003.10.24
<地址>=213179江苏省常州市武进区潘家镇周桥村委北街87号 <摘要>=本实用新型涉及一种带缓冲室膜玻璃生产磁控
溅射设备，具有电解质镀层镀膜室和导电镀层镀膜室，电解质 镀层镀膜室的一侧设置有预抽室，电解质镀层镀膜室内设置有 镀电解质镀层的磁控靶，导电镀层镀膜室内设置有镀导电镀层 的磁控靶，在电解质镀层镀膜室与预抽室间设置有缓冲室，在 预抽室与外界、预抽室与缓冲室间、缓冲室与电解质镀层镀膜 室间分别设置有隔离密封缝阀，本实用新型的带缓冲室膜玻璃 生产磁控溅射设备具有生产效率高，均匀性好，可控性强等特 点，能镀制低辐射玻璃、阳光控制膜玻璃、单向透视玻璃、高 反射镜面玻璃等产品，为目前磁控溅射镀膜玻璃生产线的升级 换代产品。
<申请号>=CN94237225.5
<名称>=双端磁控溅射离子镀膜机
<申请（专利权）人>=长沙国防科技大学八达薄膜电子技术研究所 <发明（设计）人>=彭传才;魏敏;胡云慧;田雨时;刘重光;金昭廷;黄广连 <申请日>=1994.04.27
<地址>=410073湖南省长沙市国防科技大学四系
<摘要>=本实用新型涉及的是一种双端磁控溅射离子镀 膜机，由真空室和传输机构组成。其中真空室包括 前、后锁室、溅射区、隔离区和压差室，真空室内设置 有加热装置和溅射靶、偏压装置，在前锁室上开有入 口，后锁室上开有出口，在真空室壁上设有穿越口。 本实用新型具有长度尺寸小，从而投资小，生产节拍 快，具有多种功能，既可以镀热反射玻璃，也可以镀低 辐射玻璃，还可以在瓷砖、钢板上镀膜以及在有一定 曲面的板上镀膜，且膜的附着力，膜厚的均匀性都明 显改善，从而大大提高产品的质量。
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