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第一章 头 部 第一节 概述
一、境界与分区
头部head以下颌骨下缘、下颌角、乳突尖端、上项线和枕外隆突的连线与颈部分界。以经眶上缘、颧弓上缘、外耳门上缘和乳突根部的连线为界，将头部分为后上方的颅部和前下方的面部。 二、骨性标志
1. 眉弓superciliary arch 为眶上缘上方的弓形隆起，男性显著。眉弓恰对大脑额叶下缘，其内侧半深部
有额窦。
2. 额结节frontal tuber 为眉弓上方约5cm处的最突出部，其深面正对额中回。
3. 顶结节parietal tuber 为耳廓尖上方5cm 处的顶骨外面最突出处，其下方2cm处的深部对应大脑外侧
沟后升支的末端。
4. 颧弓zygomatic arch 位于耳屏至眶下缘的连线上，全长可触及。颧弓上缘相当于大脑颞叶前端的下缘。 5. 翼点pterion 位于颧弓中点上方约两横指处，额、顶、颞、蝶四骨在此处呈“H形”交接。此处是颅骨
的薄弱区，内面对应脑膜中动脉前支，骨折损伤该动脉时易形成硬膜外血肿。
6. 乳突mastoid process 位于耳廓后方，为颞骨后下方的突起。乳突根部前内侧有茎乳孔，其后部内
面有乙状窦。
7. 枕外隆突external occipital protuberance 位于头后方正中处，其内面对应窦汇。枕外隆突向前至鼻额
点连线的深面为大脑镰和上矢状窦所在。
8. 上项线superior nuchal line 位于枕外隆突两侧，其内面平对横窦。 三、头部断层解剖学常用基线 （一）横断层常用基线
由于不同的应用目的而存在不同的横断层基线。由于基线不同，按照不同基线所获得的同一高度的横断层标本或扫描图像上的层面结构可互不相同，有时差别显著。另外须强调的是所有横断层标本和影像图像均为其下面观，初学者应特别注意，以免出现左、右侧别颠倒。
1. 眦耳线(canthomeatal line， CML)或眶耳线(orbitomeatal line， OML) 为外眦与外耳门中点的连线。颅
脑横断层扫描多以此线为基线，但实际应用中常依不同的检查目的使扫描平面与CML向上或向下成0～20°角。
2. Reid基线(Reid’s base line， RBL) 为眶下缘至外耳门中点的连线，有时又称为人类学基线。头部横断
层标本的制作常以此线为准，冠状断层标本的制作也常以该线的垂线为基线。RBL与CML向尾侧成角16.74°±2.52°。
3. Frankfort平面（Frankfort horizontal plane，FHP） 为眶下缘和左、右外耳门上缘组成的平面，接近于
Reid基线平面。活体时相当于人直立、臀部和背部靠墙、两眼向前平视时的颅骨位置。此平面常用于颅骨和头面部测量，为国际人类学家所采用的统一标准平面，故又称为人类学平面。
4. 上眶耳线(supraorbitomeatal line， SML) 为眶上缘中点至外耳门中点的连线。经该线的平面与颅底平
面一致，有利于显示颅后窝的结构及减少颅骨伪影。SML与RBL的夹角为26.12°±4.56°。
5. 连合间线(intercommissural line) 为前连合(anterior commissure， AC)后缘中点至后连合(posterior
commissure， PC)前缘中点的连线，又称AC-PC线。脑立体定向手术和X-刀、γ-刀治疗多以此线为准，故脑立体定位断层解剖研究多以此线为基线。 （二）冠状断层基线
经外耳门中点向眦耳线所做的垂线即为冠状断层基线。头部冠状扫描多以与眦耳线垂直的两侧外耳门中点连线层面为基线层面，分别向前、后按一定的层厚进行，取其前面进行观察。但脑立体定位术和脑的冠状断层解剖学研究多采用经AC-PC连线中点所做的垂线为冠状断层基线。 （三）矢状断层基线
颅的正中矢状线即为矢状断层基线。头部矢状断层标本制作和矢状扫描是以正中矢状断面为基线层面，分别向左、右以一定的层厚进行断层标本锯切或图像扫描，取其左侧面进行观察。
第二节 大脑沟、回应用解剖学
端脑telencephalon，又称大脑cerebrum，是脑的最发达部分，主要包括左、右大脑半球，两半球之间由大脑纵裂分隔。大脑纵裂底部有连结两侧半球的横行纤维构成胼胝体corpus callosum。大脑半球和小脑之间有大脑横裂。其上面观为后部较宽大的卵圆形，最大横径在两侧顶结节之间。半球表层为一层灰质，称大脑皮质cerebral cortex。皮质深面的白质称为髓质。在端脑底部的白质中包藏着一些神经核团，称基底核basal nuclei。大脑半球内部的空腔为侧脑室lateral ventricle。 一、大脑半球的主要沟裂和分叶
大脑半球表面凸凹不平，布满深浅不同的沟，沟与沟之间隆起的部分是脑回。每个半球可分为背外侧面，宽广而隆凸与颅盖穹隆状弯曲相一致；内侧面呈矢状位，平坦而垂直，借大脑纵裂和前后走行的大脑镰与对侧半球分隔；底面不规则，前部为额叶的眶部，位于颅前窝额骨眶板与筛骨筛板的上方，中部为颞叶，与颅中窝一致，后部为枕叶，在小脑幕上方，小脑幕近水平位插于枕叶和小脑之间。背外侧面和内侧面以半球的上缘(上内侧缘)为界，背外侧面和下面则以半球的下缘(下外侧缘)为界。
大脑半球以3条脑沟为标记，分为5个脑叶。这3条沟是：中央沟是大脑半球最明显的沟之一，起自半球上缘中点稍后方，向前下于半球背外侧面斜行约8～10cm，止于外侧沟的稍上方，与大脑半球上缘形成约72°的夹角。外侧沟是大脑半球最深、最明显的沟，起自半球下面的前穿质，在额叶眶面和颞极之间转向上外侧面，位于大脑半球外侧面中部，由前下方行向后上方约7 cm，向上止于顶叶，与蝶骨小翼后缘的方向基本一致。顶枕沟位于半球内侧面的后部，从前下方行向后上方，并绕半球上缘转向上外侧面。中央沟前方、外侧沟上方的部分是额叶frontal lobe，即从额极（额叶的前端）至中央沟之间的部分；中央沟后方和外侧沟上方的部分为顶叶parietal lobe；外侧沟下方的部分为颞叶temporal lobe，颞叶的前端为颞极；顶枕沟以后较小的部分为枕叶occipital lobe，枕叶的后端为枕极。通常又以自顶枕沟至枕前切迹(自枕极向前约4cm处)的连线作为枕叶的前界，自此线的中点到外侧沟后端的连线，是顶、颞二叶的分界。岛叶insula位于外侧沟的深面，呈三角形，表面有几个长短不等的脑回，其前下角的尖为岛阈，岛叶与额、顶、颞叶的分界是岛环状沟，额、顶、颞叶掩盖岛叶的部分称为岛盖。大脑分叶是人为的，这种区分纯属是为了叙述方便，每叶的范围并不完全与同名的颅骨范围相一致。脑回和脑沟的位置和排列基本上是恒定的，但其范围和微细结构却存在差异，这种差异不仅存在于不同个体，也存在于同一脑的两侧半球之间。
二、大脑半球背外侧面的沟和回
1. 额叶的上界为上内侧缘，下界为外侧沟，后界为中央沟。在额叶上有与中央沟平行的中
央前沟，二者之间的部分称中央前回precentral gyrus。其上端与内侧面的中央旁小叶前部相连，其皮质是许多粗大的皮质核束和皮质脊髓束的起点。自中央前沟水平向前走出两条沟，额上沟自中央前沟的中点弯向前方，额下沟位置较低，与其平行，额上沟以上的部分为额上回superior frontal gyrus，此回较宽大，包括大脑半球内侧面扣带沟以上的一部分，额上、下沟之间的部分为额中回middle frontal gyrus，通常还有一条不完整的沟分隔额中回，额下沟和外侧沟之间的部分为额下回inferior frontal gyrus，形成大脑外侧沟的上壁。额下回被外侧沟前支和升支自前向后分为眶部、三角部和岛部，后两部合称Broca区。
2. 顶叶的前界为中央沟，后界为顶枕沟至枕前切迹的连线，下界的一部分由外侧沟后段构
成。顶叶上有与中央沟平行的中央后沟，二者之间的部分称中央后回postcentral gyrus。其上端与内侧面的中央旁小叶后部相连。在中央后沟中点后方有一与半球上缘几乎平行的、向后下横过顶叶的顶内沟intraparietal sulcus，呈间断地自前向后走行。此沟将顶叶分为上、下二部，上部称顶上小叶superior parietal lobule，下部称顶下小叶inferior parietal lobule。顶上小叶位于上内侧缘与顶内沟之间，顶下小叶位居顶内沟下方，中央后沟下部后方，顶下小叶由前向后分为3部分，前部为缘上回supramarginal gyrus，弓形围绕外侧沟的末端，向前与中央后回下部相连；中部为角回angular gyrus，呈弓状跨过颞上沟末端，向后下与颞中回相连；后部形成颞枕弓（顶后回），弧形跨过颞下沟末端进入枕叶的上部。
3. 颞叶位于外侧沟下方，后界为顶枕沟至枕前切迹的连线，主要的沟、回大多前后纵向走
行，颞上沟自颞极开始，斜向后上与外侧沟大致平行，止于顶叶，二者之间的部分称颞上回suoerior temporal gyrus。自颞上回转入外侧沟下壁，有2个短而横行的脑回，称为颞横回transverse temporal gyri(图1—4)。颞下沟与颞上沟大致平行，二者之间的部分称颞中回middle temporal gyrus。颞下沟以下的部分称颞下回inferior temporal gyrus。 4. 枕叶位于顶枕沟至枕前切迹连线的后方，枕叶上外侧面以枕横沟和枕外侧沟为界分为枕
上、中、下回。
5. 岛叶深居外侧沟底，外侧沟在岛叶表面扩展形成外侧窝。岛叶大致呈三角形，几乎完全
被岛环状沟所围绕，周围皮质区形成岛盖覆盖在岛叶的表面，其深部为屏状核和壳。 三、大脑半球内侧面的沟和回
大脑半球内侧面最显著的特点是：粗大的连合纤维—胼胝体，它是位于大脑纵裂中部底面的宽大弓状纤维板，其前部弯曲称为膝，后部圆隆称为压部，膝向下延续为狭窄的嘴，与终板的上端相连，膝与压部之间为干，是胼胝体的主要部分。在嘴、膝、干的凹侧与带状弯曲的穹窿之间是透明隔。左右两隔之间有透明隔间腔（第五脑室）。额、顶、颞、枕叶均延伸至半球的内侧面。内侧面的重要沟回有：扣带沟cingulate sulcus起于胼胝体嘴的下方，先向前，再向上向后与胼胝体的弯曲一致，其末端止于上缘中点后方4cm处。中央沟延展到半球内侧面。扣带沟以上的部分以中央沟上端延线为界，前方属于额叶，后方属于顶叶。扣带沟在中央沟的前后方分别向上和上后方发出中央旁沟和扣带沟缘支，二者之间为中央旁小叶，是中央前、后回上端延伸到半球内侧面的部分。扣带沟发出緣支以后直至胼胝体压部后方的部分称顶下沟，构成楔前叶的下界。胼胝体沟环形于胼胝体的背面，它绕过胼胝体压部的后面向前下移行为海马沟。扣带沟与胼胝体沟之间的脑回称扣带回。扣带回向后下延伸，位于距状沟前部前方的狭窄部分称为扣带回峡。内侧面后区有两条沟：顶枕沟起自枕极前方5cm处的上缘，斜向前下与距状沟中部相交；顶枕沟与扣带沟缘支之间的部分属于顶叶的楔前叶。距状沟起自枕极附近，向前呈微向上凸的弧形，在胼胝体压部的后方以锐角与顶枕沟相交并继续前行，以交点为界分为前后两部，前部推顶脑回突入侧脑室后角内侧壁形成一隆起称为禽距，若横断面上辨认距状沟困难时，可以禽距为标志。距状沟后部把枕叶内侧面分为上方的楔叶（距状沟后部与顶枕沟之间）和下方的舌回（后部属于枕叶，向前延续为颞叶的海马旁回）。距状沟的下方，自枕叶向前伸向颞叶的沟，称侧副沟。侧副沟前部上方的脑回，称海马旁回，其前端向后弯曲的部分称钩。 四、大脑半球底面的沟和回
在半球底面被外侧沟分为两部。前部较小，属于额叶眶面，其内侧部可见前后走向的嗅束沟，沟内有纵行的嗅束，其前端膨大称嗅球，后部扩大称嗅三角（嗅结节、内外侧嗅纹），嗅三角与视束之间为前穿质。嗅束沟的内侧为直回，外侧称眶回，被H形的沟分为前、后和内、外侧眶回。后部较大，属于颞叶和枕叶，可见起自枕极与距状沟平行向前走行的至颞叶的侧副沟；侧副沟的外侧颞叶内可见与之平行的枕颞沟。侧副沟内侧，枕叶内为舌回、颞叶内有海马旁回，海马旁回内侧为海马沟，海马沟的外侧有齿状回，齿状回的外侧，于侧脑室下角底壁上有一呈弓状的隆起称海马。侧副沟与枕颞沟之间为枕颞内侧回；枕颞沟外侧为枕颞外侧回。
第三节 颅脑连续横断层解剖