发布时间 : 星期五 文章单晶硅制绒更新完毕开始阅读
4.1.6 确认氨气和硅烷的气柜均已正确打开，确认后即可启动工艺。 4.2 启动工艺
4.2.1 在system或process里点“control”按钮，然后在下拉菜单里选择一个既定工艺； 4.2.2 点load，加载参数，之后点start，启动工艺； 4.2.3 点击下面transport里面的start，启动传送带系统；
4.2.4 待硅烷和氨气通入工艺腔，产生等离子体后，把carrier放入设备中运行两次，以消除
carrier上附 着的水分和空气； 4.2.5 去除carrier上的水分后就可以开始镀膜。 4.3 装片卸片
4.3.1 把硅片盒大面（附图1）朝下，用真空吸笔把硅片依次放入位于上料台的石墨框里，
用挂钩（附图2）挂住；
4.3.2 按传送带控制器上的“进板请求”按钮（附图3），把装满硅片的石墨框送入设备体内，
并准备导入下一个空石墨框；
4.3.3 待石墨框从设备体内出来、停止在下料台上后，用真空吸笔把下面镀好膜的硅片吸出
（附图4），放入塑料盒内；
4.3.4 待把所有硅片都卸下后，按石墨框传送带控制器上的“出板请求”按钮（附图5），把
空石墨框送入传送带，送至上料台一端。 4.4 停止工艺
4.4.1 在加工完所有硅片后或工艺运行过程中出现意外情况时，在control界面的recipe菜单
里点stop，系统会谈出一个对话框，点击yes，即可停止工艺运行，然后在transport里也点击stop，停止传送带；
4.4.2 若短时间内（1个小时内）还要继续工作，应让设备保持在这种待命状态； 4.5 安全
4.5.1 非PECVD生产、工艺和维护人员不得对设备进行操作、拆卸和改装。 4.5.2 搬运石墨框时应戴防护手套。 4.5.3 设备运行时禁止把手伸入马达中。 4.5.4 设备运行时禁止接触电控柜中的元器件。 4.5.5 设备运行时禁止接触氨气和硅烷的管道。 4.5.6 设备维护之前应确保设备已经充分冷却。 5.引用文件
PECVD设备操作规程：SF/QD-设备-06 氮化硅薄膜检验工艺规程：SF/QD-工艺-15
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图1 硅片盒的大面和小面，装片时，应保持小面朝上、大面朝下
图2 石墨框上的挂钩（圆圈圈住的部分）
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图3 传送带进口端控制器
图4 下料台下片场景
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图5 传送带控制器出口端控制器
丝网印刷工艺说明
1.目 的：
确保丝网印刷工艺处于稳定受控状态。 2.适用范围：
适用于太阳电池背电极、背电场、正面电极的印刷过程。 3.责 任：
本工艺说明由技术部负责。 4.内 容：
4.1背电极印刷、烘干 4.1.1工艺流程
4.1.1.1根据《丝网印刷设备操作规程》，检查电、气等是否正常，打开设备并运行软件。 4.1.1.2按工艺参数要求设印刷速度、反料速度、丝网间距、刮刀高度、印刷压力以及烘干温度（附图1）。
4.1.1.3取出相应型号网版、刮刀和刮条，固定在丝网印刷机上（见附图2）。
4.1.1.4用滚筒搅匀银铝浆，用工具将浆料倒在刮刀附近（注意不要使浆料从丝网中渗漏）（见附图3）。
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